等离子体刻蚀设备研发总监

岗位职责： 1、全权负责等离子体刻蚀设备（ICP/RIE）研发项目，统筹项目规划、进度管控、资源协调，制定技术方案，攻克核心技术难题，带队完成设备从设计到量产的全流程开发。 2、调研半导体、先进封装、功率器件等行业市场需求，制定产品路线图；定义设备核心技术指标，撰写PRD，结合公司等离子技术制定差异化产品方案。 3、联动机械、射频、工艺等多部门工程师，完成设计评审、零部件选型、风险把控等关键工作；跟踪样机测试，分析问题并推动产品迭代。 4、对接客户挖掘需求，定制工艺解决方案；编写技术白皮书、竞品分析等销售资料，搭建销售工具包。 5、管控产品上市、量产、退市全流程，把控成本与定价；监控设备运行数据，收集客户反馈，推动产品持续优化。 任职要求： 1、本科及以上学历，等离子体物理、微电子、材料、机械、电气等相关专业，硕士优先。 2、5年以上半导体设备行业经验，含3年及以上产品经理、工艺集成、系统工程等相关岗位经验。 3、熟悉射频/微波等离子刻蚀设备（ICP/RIE/CCP）原理及整机架构，可对接各技术部门高效沟通； 4、了解至少两类薄膜沉积工艺（PVD、PECVD、ALD等），刻蚀工艺，熟悉真空设备者优先； 5、具备市场调研、竞品分析能力，可独立撰写各类产品技术文档，懂成本核算与产品上市规划。 6、具备优秀跨部门协调能力、逻辑分析能力，可接受短期出差。