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PVD工艺经理

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华创证券有限责任公司
¥30,000 - ¥60,000 /月2周前
全职

职位描述

该职位来源于猎聘 岗位职责: 1) 负责PVD各种机台和chamber 的工艺开发和调试,协同设备,机械,电气,软件对机台进行硬件CIP, 优化工艺指标,达成具有竞争力的工艺表现。 2) 主导客户现场首台机台交付,解决机台各种工艺相关问题,完成T2/T3 验证,达成机台验收目标。 3) 持续优化机台性能,包括不限于工艺表现,WPH,COO等方面,打败竞争对手,赢下重复订单。 4) 协同PVD 部门和市场开发新客户,达成具有竞争力的Demo 结果,拿到更多订单。 任职要求:

1) 研究生以上学历,5年以上PVD Cu机台国产化开发经验,熟悉PVD Ta/Cu硬件和工艺。包括PVD Cu1, Cu2(对标应材RFXT 3.10/3.21),Cu3 (对标应材Access 2 Cu),Cu4 (对标应材Access 3 Cu)的硬件迭代和相应的工艺迭代。包括PVD EnCoRe2 Ta 和EnCoRe3 Ta的硬件&工艺迭代。 2) 熟悉PVD Cu UMM 机械结构,电气控制和工艺profile对应需求;熟悉PVD Cu magnet相关硬件参数及对应的工艺评估标准;熟悉电磁线圈UM/MM/BM对工艺的影响机理和调试方法;熟悉不同版本FO几何尺寸迭代,工作原理,理解接地FO 和bias FO的硬件&工艺差异,理解FO对工艺性能的影响。熟悉PVD Cu Magnet spacing 补偿机制,DC power 补偿机制,熟悉E/D ratio,Resputter ratio,Dep/Etch比例等tuning knobs对台阶覆盖率,overhang的调试方法。 3) 熟悉PVD Ta DC loop/Coil loop/Bias loop/Emagnet等相关硬件,熟悉PVD Ta magnet相关硬件参数及对应的工艺评估标准;熟悉DDEF工艺,熟悉PVD Ta treat ALD TaN 工艺,熟悉Ta chamber 常见particle问题原因和解决方法,熟悉Ta/TaN Dep rate shift,Etch rate shift等issue排查方法和解决方案,理解Barrier layer 对WAT和可靠性的影响及调试方法。熟悉5nm EnCoRe 3 Ta 和EnCoRe2 Ta 硬件和工艺的差异。 4) 熟悉PVD Cu 上下游process flow,理解PVD Cu seed 和ECP Cu,CMP Cu 之间的协同关系,能快速定位Cu 制程相应defect 的根因,协助客户解决问题。

5) 具备以上硬件,工艺和process flow的技术能力,达成客户对薄膜均匀性和台阶覆盖率的要求,协助客户通过WAT, inline defect,可靠性和良率测试,完成机台验收。争取repeat order。

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